發布時間：2021-04-22蒸發鍍膜機

發布時間：2021-01-12真空卷繞鍍膜機有哪些類型，以及它的原理?

蒸發式(shi)卷繞(rao)鍍(du)膜(mo)設(she)備(bei)根據蒸鍍(du)工(gong)藝可(ke)(ke)分(fen)為連續(xu)式(shi)、半連續(xu)式(shi)和(he)間(jian)歇式(shi)三種，因設(she)備(bei)結構不同還可(ke)(ke)分(fen)為：單室(shi)(shi)、雙(shuang)室(shi)(shi)和(he)多室(shi)(shi)卷繞(rao)鍍(du)膜(mo)設(she)備(bei)

發(fa)布時(shi)間：2021-01-12卷繞鍍膜機卷膜條件

　卷繞(rao)鍍膜(mo)機卷膜(mo)條(tiao)件： 卷膜(mo)有效幅寬 1050mm 卷膜(mo)大直(zhi)徑(jing) ф400mm 卷繞(rao)芯軸(zhou)直(zhi)徑(jing) ф100mm(3寸不銹鋼(gang)芯軸(zhou))

發布時間：2020-12-28多弧離子鍍膜機的應用范圍

?多弧離子鍍膜(mo)機的(de)應(ying)用范圍主要可以分(fen)為兩大類，一(yi)類為工(gong)具類產(chan)品的(de)鍍膜(mo)，一(yi)類為裝飾鍍膜(mo)。

發(fa)布時間(jian)：2020-12-28淺析真空鍍膜機的原理

真(zhen)空(kong)鍍(du)膜機是目(mu)前(qian)制作真(zhen)空(kong)條件應用(yong)為廣泛的真(zhen)空(kong)設(she)備，一般用(yong)真(zhen)空(kong)室、真(zhen)空(kong)機組、電氣控制柜三大工作原理。

發布(bu)時間：2020-12-16多弧離子鍍膜機幾種排氣方法

多弧(hu)離子鍍(du)膜(mo)機的抽(chou)真(zhen)空通常采用下面(mian)幾種排氣(qi)方法(fa)：單純排氣(qi)工藝、抽(chou)空加熱(re)排氣(qi)工藝、空氣(qi)預加熱(re)排氣(qi)工藝。

發布時間(jian)：2020-12-16磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術的應用范圍

　　磁(ci)控濺(jian)射(she)目前是一種(zhong)應用(yong)十分廣泛的薄膜(mo)沉積(ji)(ji)(ji)技(ji)術(shu)，濺(jian)射(she)技(ji)術(shu)上(shang)的不(bu)(bu)斷(duan)發展和對(dui)新功能薄膜(mo)的探索研(yan)究，使磁(ci)控濺(jian)射(she)應用(yong)延伸到許(xu)多生(sheng)產和科(ke)研(yan)領(ling)域。在微(wei)電(dian)子領(ling)域作為一種(zhong)非熱式鍍膜(mo)技(ji)術(shu)，主要應用(yong)在化學氣相沉積(ji)(ji)(ji)(CVD)或金屬有機化學氣相沉積(ji)(ji)(ji)(MOCVD)生(sheng)長及不(bu)(bu)適用(yong)的材料薄膜(mo)沉積(ji)(ji)(ji)，而且可以(yi)獲得大面(mian)積(ji)(ji)(ji)非常均勻的薄膜(mo)。

發布時間：2020-11-28光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產生的原因

光學鍍膜機(ji)主要(yao)是由(you)于基(ji)片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基(ji)片上部(bu)、或(huo)下(xia)部(bu)法線(xian)與蒸發(fa)源構(gou)成的蒸發(fa)角差異較大。

發(fa)布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜機廣泛應用塑料制品、陶瓷等行業

磁控濺(jian)射光學鍍膜機(ji)廣泛應(ying)用于塑料制(zhi)品(pin)、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制(zhi)品(pin)等、工藝品(pin)、塑料手(shou)機(ji)殼、電子產品(pin)、建材等行(xing)業。

發(fa)布時間(jian)：2020-11-09磁控濺射鍍膜機鍍膜原理

　磁控(kong)濺(jian)射鍍(du)膜機(ji)使(shi)用磁控(kong)濺(jian)射鍍(du)膜靶源，無(wu)論是非平衡(heng)式還是平衡(heng)式的(de)(de)磁控(kong)濺(jian)射鍍(du)膜靶源，如果(guo)是靜止的(de)(de)磁鐵產(chan)生的(de)(de)磁場功對材的(de)(de)利用率會(hui)小于(yu)30%。