磁控濺射目前是一種(zhong)應用十分廣泛的(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)沉(chen)積(ji)技術(shu)，濺射技術(shu)上的(de)不(bu)斷發(fa)展(zhan)和(he)對新功能薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)的(de)探索研究，使磁控濺射應用延伸(shen)到(dao)許多(duo)生產和(he)科(ke)研領(ling)(ling)域。在微(wei)電子(zi)領(ling)(ling)域作為一種(zhong)非熱式(shi)鍍膜(mo)技術(shu)，主要應用在化(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)(CVD)或金屬有機化(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)(MOCVD)生長及不(bu)適用的(de)材料(liao)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)沉(chen)積(ji)，而且可以獲得大面積(ji)非常均勻的(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)。

　　包括歐姆接觸的(de)Al、Cu、Au、W、Ti等金屬(shu)電極薄(bo)膜(mo)及(ji)可用(yong)于(yu)柵絕緣層或擴散勢壘層的(de)TiN、Ta2O5、TiO、Al2O3、ZrO2、AlN等介質薄(bo)膜(mo)沉積。光學(xue)(xue)薄(bo)膜(mo)應(ying)用(yong)反應(ying)磁(ci)控濺射(she)(she)技術已有(you)多年，中頻(pin)閉合場非平衡磁(ci)控濺射(she)(she)技術也已在光學(xue)(xue)薄(bo)膜(mo)(如增透膜(mo))、低(di)輻射(she)(she)玻璃和(he)透明(ming)導(dao)電玻璃等方面(mian)得到應(ying)用(yong)。特別(bie)是透明(ming)導(dao)電玻璃目前廣(guang)泛應(ying)用(yong)于(yu)平板顯示器(qi)(qi)件、太(tai)陽能電池、微波(bo)與射(she)(she)頻(pin)屏蔽裝置與器(qi)(qi)件、傳感器(qi)(qi)等。

　　透(tou)明導(dao)電(dian)玻璃(li)在(zai)玻璃(li)基片或(huo)柔(rou)性襯(chen)底上，濺射(she)制(zhi)(zhi)備SiO2薄膜(mo)(mo)和摻雜ZnO或(huo)InSn氧化物(wu)(ITO)薄膜(mo)(mo)。ITO薄膜(mo)(mo)最低電(dian)阻率接近1025Ω·cm量級，可見光(guang)范圍內平均光(guang)透(tou)過率在(zai)90%以上。在(zai)光(guang)學(xue)存(cun)儲(chu)(chu)領域，光(guang)盤(pan)存(cun)儲(chu)(chu)自推出以來技術不斷(duan)更新，磁控濺射(she)也從鍍(du)制(zhi)(zhi)CD2ROM的Al及CD2R的Au或(huo)Ag的光(guang)反(fan)射(she)層(ceng)，到CD2RW中鍍(du)制(zhi)(zhi)ZnS2SiO2/GeSbTe(或(huo)AgInSbTe)/ZnS2SiO2/Al多層(ceng)結構(gou)光(guang)記錄媒介(jie)膜(mo)(mo)。

　　目(mu)前隨著(zhu)對光(guang)存儲(chu)的需求大(da)幅(fu)(fu)度(du)的增(zeng)加(jia)，磁(ci)控濺射(she)鍍膜(mo)機磁(ci)控濺射(she)在光(guang)學存儲(chu)領域將發揮(hui)更大(da)的作用。在現代(dai)機械加(jia)工(gong)工(gong)業中，表面功能(neng)膜(mo)、超硬膜(mo)，自(zi)(zi)潤滑薄膜(mo)的表面沉(chen)積技術自(zi)(zi)問世以來得到長足發展(zhan)，能(neng)有效的提(ti)高(gao)(gao)表面硬度(du)、復合(he)韌(ren)性(xing)、耐磨損性(xing)和抗(kang)高(gao)(gao)溫化學穩(wen)定(ding)性(xing)能(neng)，從而(er)大(da)幅(fu)(fu)度(du)地提(ti)高(gao)(gao)涂(tu)層(ceng)產品的使用壽命，應用越來越廣泛(fan)。