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磁控濺射鍍膜機鍍膜原理

2020-11-09  來自: 肇慶高要(yao)區(qu)恒譽(yu)真空技術有(you)限公司 瀏(liu)覽次數:698


  磁(ci)(ci)控濺射鍍(du)(du)膜(mo)機使用(yong)(yong)磁(ci)(ci)控濺射鍍(du)(du)膜(mo)靶(ba)(ba)源,無(wu)論是(shi)非平衡式(shi)還是(shi)平衡式(shi)的(de)(de)磁(ci)(ci)控濺射鍍(du)(du)膜(mo)靶(ba)(ba)源,如果是(shi)靜(jing)止(zhi)(zhi)的(de)(de)磁(ci)(ci)鐵產生的(de)(de)磁(ci)(ci)場(chang)功對材的(de)(de)利用(yong)(yong)率會小(xiao)于30%。一(yi)般的(de)(de)小(xiao)型鍍(du)(du)膜(mo)設備(bei),多(duo)采(cai)用(yong)(yong)磁(ci)(ci)場(chang)靜(jing)止(zhi)(zhi)靶(ba)(ba)材。鑒于此,可以(yi)通過更改磁(ci)(ci)場(chang)來增大對靶(ba)(ba)材的(de)(de)利用(yong)(yong),旋轉(zhuan)磁(ci)(ci)場(chang)用(yong)(yong)在大型設備(bei)。

  磁控濺(jian)射(she)技術(shu)總體來(lai)說都是利用電子(zi)與磁場(chang)的(de)(de)交互(hu),產生大量離(li)子(zi)撞(zhuang)擊靶材完成(cheng)靶材的(de)(de)濺(jian)射(she),其中離(li)不(bu)開惰性氣體的(de)(de)參與,在如今的(de)(de)磁控濺(jian)射(she)設備中已經淘汰了線圈的(de)(de)磁鐵(tie)改(gai)為磁鐵(tie)。

  一臺良好(hao)的(de)(de)(de)磁控濺(jian)射鍍(du)(du)膜(mo)設(she)備(bei)代價(jia)很高,靶源(yuan)相當(dang)于鍍(du)(du)膜(mo)設(she)備(bei)的(de)(de)(de)心(xin)臟但往往容(rong)易被(bei)購買者忽視(shi),很多朋(peng)友注重(zhong)膜(mo)層厚度的(de)(de)(de)測量、配套(tao)的(de)(de)(de)真空泵(beng)好(hao)壞(huai),MFC程序是否好(hao)用,別的(de)(de)(de)方面在好(hao)如(ru)心(xin)臟不(bu)夠(gou)有(you)力對整體的(de)(de)(de)效果的(de)(de)(de)影響(xiang)是很大的(de)(de)(de),源(yuan)的(de)(de)(de)冷卻是保(bao)障源(yuan)不(bu)被(bei)高溫所損(sun)壞(huai)的(de)(de)(de)必須(xu)配置(zhi)。

  磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)可(ke)以(yi)有中(zhong)頻(pin)、高(gao)頻(pin)和(he)直流之分,中(zhong)頻(pin)磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)的(de)(de)原理(li)很(hen)直流磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)是一樣的(de)(de),在整個系統磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)鍍(du)膜中(zhong),筒體與陰(yin)極(ji)(ji)和(he)陽(yang)極(ji)(ji)的(de)(de)安(an)排有關聯,其不同(tong)在于(yu)直流磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)的(de)(de)陽(yang)極(ji)(ji)是筒體,而中(zhong)頻(pin)磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)成(cheng)對出現。就(jiu)中(zhong)頻(pin)磁(ci)(ci)控(kong)(kong)濺(jian)(jian)射(she)而言,如今使用(yong)比(bi)較多(duo)的(de)(de)是鍍(du)制一些(xie)金屬的(de)(de)產品,這種設備一般制作的(de)(de)比(bi)較大型,可(ke)以(yi)放下非(fei)常多(duo)的(de)(de)產品一起鍍(du)制,提高(gao)了效率以(yi)及膜層的(de)(de)致密性(xing)。

  利用不(bu)同的磁控(kong)濺(jian)射鍍膜(mo)技(ji)術可(ke)以(yi)得到不(bu)同的離子密度,改變磁場(chang)(chang)的設(she)計可(ke)以(yi)改變離子的量以(yi)及分布,對于磁控(kong)濺(jian)射技(ji)術來說(shuo)磁場(chang)(chang)是機密的。。

關鍵詞: 磁控濺射鍍膜機           

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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