磁控濺射(she)卷繞(rao)鍍膜設備，磁控濺射(she)具有以下兩大優點：提(ti)高等離子(zi)密度，從而(er)提(ti)高濺射(she)速度;減少轟(hong)擊零件的電子(zi)數目(mu)，因而(er)降低了基材因電子(zi)的升(sheng)溫(wen)。

　　因此，該技術在薄膜技術中占有主導地位。磁控濺射陰極的大(da)缺點(dian)：使用平(ping)面靶材(cai)，靶材(cai)在跑道區形成濺射(she)溝道，這(zhe)溝道一旦(dan)貫穿靶材(cai)，則整塊靶材(cai)即報廢，因(yin)而(er)靶材(cai)的(de)利用率只有20-30%。

　　不過，目(mu)前為了(le)避免這個缺(que)點，很多靶材采用圓柱靶材形式(shi)，靶材利用率得(de)以大幅度提高(gao)。