常(chang)見的真空卷(juan)繞鍍膜設(she)備(bei)按(an)其工(gong)作原理可(ke)分為：蒸發卷(juan)繞鍍膜、磁控濺射卷(juan)繞鍍膜和組(zu)合式卷(juan)繞鍍膜。

　　蒸發式(shi)(shi)卷繞(rao)鍍(du)(du)膜設(she)備(bei)根(gen)據(ju)蒸鍍(du)(du)工藝可分為連續(xu)式(shi)(shi)、半連續(xu)式(shi)(shi)和間歇式(shi)(shi)三種，因設(she)備(bei)結構不同還可分為：單室、雙室和多室卷繞(rao)鍍(du)(du)膜設(she)備(bei)。主(zhu)要用于塑(su)料、布、紙、鋼帶等(deng)(deng)帶狀材料表面真空蒸鍍(du)(du)薄(bo)膜，作(zuo)為食(shi)(shi)品(pin)的金屬(shu)化包裝(zhuang)(zhuang)材料、反(fan)光(guang)材料、保溫隔熱材料、表面裝(zhuang)(zhuang)潢(huang)材料、電氣材料以及各種標(biao)識、標(biao)簽、商(shang)標(biao)等(deng)(deng)裝(zhuang)(zhuang)飾材料。廣泛用于包裝(zhuang)(zhuang)、裝(zhuang)(zhuang)潢(huang)、印刷、紡織、食(shi)(shi)品(pin)、防偽、卷煙、電子工業等(deng)(deng)領(ling)域。

　　磁(ci)控(kong)濺射(she)卷(juan)繞鍍(du)(du)膜機(ji)工作原(yuan)理與(yu)特(te)點：采用磁(ci)控(kong)濺射(she)(直(zhi)流、中頻(pin)、射(she)頻(pin))方法把各種金(jin)屬(shu)、合(he)金(jin)、化合(he)物、陶瓷等(deng)材料沉積(ji)到柔性基材上，進行單層或多層鍍(du)(du)膜。

　　適(shi)合(he)在柔性(xing)基材上鍍制各種介質膜(mo)(SiO2,Si3N4,Al2O3,SnO2,ZnO,Ta2O5等)、導電膜(mo)(ITO,AZO)、AR減反膜(mo)、HR高反膜(mo)、低(di)輻射Low-E膜(mo)、合(he)金膜(mo)和金屬膜(mo)(Al,Cr,Cu,Fe,Ni,SUS不銹鋼,TiAl等)主要應用于：柔性(xing)線路板(ban)、ITO透(tou)明導電膜(mo)、薄膜(mo)電容、汽(qi)車(che)/火車(che)/輪船等貼膜(mo)、薄膜(mo)太陽能電池(chi)、柔性(xing)太陽能電池(chi)FPD平板(ban)顯示，柔性(xing)顯示器件等方面。