多弧(hu)離(li)子(zi)鍍膜機(ji)的抽真(zhen)空(kong)通常采用下面幾種排氣(qi)方(fang)法：單(dan)純排氣(qi)工(gong)藝、抽空(kong)加(jia)熱排氣(qi)工(gong)藝、空(kong)氣(qi)預(yu)加(jia)熱排氣(qi)工(gong)藝。

　　多弧離子(zi)鍍膜機(ji)單純排氣(qi)(qi)(qi)工藝的方(fang)法是(shi)，真空離子(zi)鍍膜機(ji)的真空室從大(da)氣(qi)(qi)(qi)壓、常溫開始用機(ji)械泵抽(chou)空到(dao)(dao)15Pa后，再加(jia)高(gao)真空擴散泵進(jin)行(xing)抽(chou)氣(qi)(qi)(qi)，一直到(dao)(dao)放氣(qi)(qi)(qi)量降低到(dao)(dao)允許范圍(wei)。

　　這是一種簡單(dan)、普(pu)通的(de)獲得高真(zhen)空(kong)的(de)排氣方法(fa)。用(yong)于真(zhen)空(kong)離子鍍膜機當中(zhong)的(de)話，抽(chou)氣效果極差，不僅(jin)(jin)抽(chou)氣時間(jian)需要(yao)特別長，而且吸附劑無法(fa)得到再(zai)活化。因此，單(dan)純排氣工藝僅(jin)(jin)僅(jin)(jin)適用(yong)于不能加熱的(de)多(duo)層絕熱量(liang)熱器(qi)的(de)真(zhen)空(kong)容器(qi)的(de)排氣