多(duo)弧(hu)離子(zi)鍍膜機的(de)(de)(de)(de)電(dian)弧(hu)蒸發(fa)(fa)源(yuan)原理是通過一(yi)個(ge)(ge)冷陰(yin)極(ji)自(zi)持電(dian)弧(hu)放電(dian)，是一(yi)種場致發(fa)(fa)射。蒸發(fa)(fa)源(yuan)的(de)(de)(de)(de)典型的(de)(de)(de)(de)基(ji)本配置為(wei)：受鍍基(ji)材與陰(yin)極(ji)相接(jie)，陽極(ji)接(jie)真(zhen)空(kong)(kong)室(shi)，待真(zhen)空(kong)(kong)室(shi)抽到到高些的(de)(de)(de)(de)真(zhen)空(kong)(kong)狀態、觸發(fa)(fa)電(dian)極(ji)啟(qi)動器(qi)接(jie)觸打開(kai)，形成一(yi)個(ge)(ge)穩定(ding)的(de)(de)(de)(de)電(dian)弧(hu)放電(dian)于陽極(ji)和陰(yin)極(ji)之(zhi)間(jian)。而在陰(yin)極(ji)的(de)(de)(de)(de)表(biao)面覆蓋有(you)很多(duo)快(kuai)速移動的(de)(de)(de)(de)陰(yin)極(ji)斑(ban)，斑(ban)直(zhi)(zhi)徑(jing)在1μm到兩微米(mi)之(zhi)間(jian)，還有(you)直(zhi)(zhi)徑(jing)約10μm的(de)(de)(de)(de)光(guang)斑(ban)，有(you)每(mei)秒移動幾十米(mi)的(de)(de)(de)(de)速度，電(dian)流(liu)之(zhi)間(jian)密度為(wei)10 A/cm-10 A/cm，極(ji)間(jian)電(dian)壓也降低到20V-40V之(zhi)間(jian)。

　　于陰(yin)(yin)極(ji)(ji)斑(ban)的(de)(de)前(qian)(qian)面是一些等離(li)子(zi)體，電子(zi)飛速移至陽極(ji)(ji)，離(li)子(zi)是處于一種(zhong)相對靜(jing)止在(zai)(zai)鍍膜(mo)空(kong)間(jian)中，陰(yin)(yin)極(ji)(ji)斑(ban)前(qian)(qian)方的(de)(de)正離(li)子(zi)集合成(cheng)正空(kong)間(jian)電荷，于陰(yin)(yin)極(ji)(ji)表(biao)面附近形(xing)成(cheng)10 v/cm10 v/cm的(de)(de)強(qiang)度電場，用以(yi)克服在(zai)(zai)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)的(de)(de)勢壘(lei)，以(yi)強(qiang)電子(zi)發射來維持放電，但一些離(li)子(zi)因為被(bei)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)轟擊而(er)導致了陰(yin)(yin)極(ji)(ji)斑(ban)的(de)(de)局部快速蒸發、離(li)化，從而(er)使陰(yin)(yin)極(ji)(ji)斑(ban)變為微點(dian)的(de)(de)蒸發源。在(zai)(zai)陰(yin)(yin)極(ji)(ji)靶的(de)(de)范圍內(nei)，由(you)于絕緣屏(ping)蔽(bi)和磁場的(de)(de)作用而(er)使這(zhe)些微點(dian)蒸發源在(zai)(zai)該范圍內(nei)做無規則運動，也(ye)就形(xing)成(cheng)了均勻(yun)的(de)(de)大面積蒸發源。

　　所謂多(duo)弧(hu)(hu)離(li)子(zi)鍍(du)膜機就是(shi)用多(duo)個電(dian)弧(hu)(hu)蒸發源為(wei)核心的(de)一種離(li)子(zi)鍍(du)膜設備，通常又叫多(duo)弧(hu)(hu)鍍(du)膜、弧(hu)(hu)鍍(du)、電(dian)弧(hu)(hu)鍍(du)膜等