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發布時間：2021-01-22磁控濺射鍍膜設備能夠應用于哪些方面呢?

磁控(kong)濺(jian)射鍍(du)膜設備(bei)在(zai)硬質(zhi)涂(tu)層(ceng)中的(de)應用：比如說切削工(gong)具(ju)、磨具(ju)和耐(nai)磨耐(nai)腐蝕(shi)等配件(jian)。在(zai)防護涂(tu)層(ceng)中的(de)應用：飛機發(fa)動機的(de)葉片、汽車鋼板、散熱片等。
發(fa)布時間：2021-01-12磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程

磁控濺射鍍膜設備配(pei)合NCVM工藝(yi)，能(neng)夠實現對于(yu)陶(tao)瓷(ci)電子(zi)消(xiao)費(fei)品的表(biao)面裝飾處(chu)理，在(zai)保證陶(tao)瓷(ci)強度(du)和(he)硬度(du)的同(tong)時，也能(neng)夠提升其美觀(guan)性和(he)藝(yi)術(shu)性，好地滿足消(xiao)費(fei)者的個性化需求
發(fa)布(bu)時間：2020-12-16磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術的應用范圍

　　磁控濺(jian)射目前是一種(zhong)(zhong)應用(yong)十分廣泛的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)沉(chen)積技(ji)(ji)術，濺(jian)射技(ji)(ji)術上的(de)(de)(de)不斷(duan)發(fa)展和對(dui)新功能(neng)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)探索(suo)研究，使(shi)磁控濺(jian)射應用(yong)延伸到許多生產(chan)和科研領域(yu)。在微電子(zi)領域(yu)作為(wei)一種(zhong)(zhong)非(fei)熱式鍍膜(mo)(mo)技(ji)(ji)術，主要應用(yong)在化學(xue)(xue)氣相(xiang)沉(chen)積(CVD)或金屬有機化學(xue)(xue)氣相(xiang)沉(chen)積(MOCVD)生長及不適用(yong)的(de)(de)(de)材料薄(bo)膜(mo)(mo)沉(chen)積，而(er)且可以獲得大面(mian)積非(fei)常均勻的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)。
發(fa)布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜設備原理及發展起源

　磁控濺(jian)(jian)射(she)鍍(du)膜設(she)備的工作原理要從一開始的“濺(jian)(jian)射(she)現象(xiang)”說(shuo)起。人們(men)由起初發(fa)(fa)覺“濺(jian)(jian)射(she)現象(xiang)”發(fa)(fa)展至“濺(jian)(jian)射(she)鍍(du)膜”此間(jian)歷經了(le)(le)相(xiang)當(dang)長(chang)的發(fa)(fa)展時間(jian)，濺(jian)(jian)射(she)現象(xiang)早在19世(shi)紀50年代的法(fa)拉第氣體放電實(shi)驗(yan)就已經發(fa)(fa)現了(le)(le)
發布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜機廣泛應用塑料制品、陶瓷等行業

磁控濺射光(guang)學(xue)鍍膜機廣泛應用于(yu)塑料制品(pin)、陶瓷、樹脂、水(shui)晶玻璃制品(pin)等(deng)、工藝品(pin)、塑料手機殼、電子產品(pin)、建材等(deng)行(xing)業(ye)。
發布時間：2020-11-11磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法

磁控濺射鍍膜(mo)常(chang)見毛病(bing)及解決辦法(fa)(fa) 　　1.無法(fa)(fa)起輝　　(1)直流(liu)(liu)電源毛病(bing)，查(cha)看直流(liu)(liu)電源; 　　(2)氬氣(qi)進氣(qi)量小，查(cha)看氬氣(qi)流(liu)(liu)量計或加(jia)大氬氣(qi)進氣(qi)量; 　　(3)真(zhen)空室(shi)清(qing)潔度不行(xing)，清(qing)潔真(zhen)空室(shi);
發布(bu)時間：2020-11-09磁控濺射鍍膜機鍍膜原理

　磁(ci)控濺(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)機使用磁(ci)控濺(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)靶(ba)(ba)源(yuan)，無論是非(fei)平衡式還(huan)是平衡式的磁(ci)控濺(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)靶(ba)(ba)源(yuan)，如(ru)果是靜止的磁(ci)鐵產生(sheng)的磁(ci)場(chang)功對材的利(li)用率會小于(yu)30%。
發布時(shi)間：2020-09-16淺析磁控鍍膜機磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素

淺析磁控(kong)鍍(du)膜機磁控(kong)濺射鍍(du)膜靶電(dian)源的空載電(dian)壓(ya)影響因(yin)素　　(1) 靶電(dian)源輸出的空載電(dian)壓(ya)主要供磁控(kong)靶“點(dian)火起輝”用(yong)，其峰值電(dian)壓(ya)大(da)體可分(fen)為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。
發布(bu)時間：2018-01-04磁控濺射鍍膜機?技術規格特點

磁控濺(jian)(jian)射(she)技(ji)術(shu)是最常用(yong)的(de)一種物理氣(qi)相沉(chen)積技(ji)術(shu)。磁控濺(jian)(jian)射(she)鍍膜機(ji)可用(yong)于(yu)制(zhi)備金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材(cai)料，具(ju)有設(she)備成熟、易于(yu)控制(zhi)、鍍膜面(mian)積大(da)、附著力強(qiang)等優點，因此被廣泛使用(yong)。