VZS-500/VZS-600 高真空電子束采用完全封閉的系統框架，結構緊湊，外觀更漂亮，使用更安全。6-10KW e型電子槍可選國產或進口，可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能。該設備廣泛應用于科研院所、高校在片狀、半球狀、異形基底表面制備金屬/化合物(ITO等氧化物)/導電薄膜/光學薄膜等。

　　主要特點/優勢：

　　完全封閉的系統框架設計，外觀更漂亮，使用更安全;是一臺兼具美學和用戶操控體驗的全新升級產品;

　　前開門真空腔體，方便取放基片、添加蒸發材料以及真空室的日常維護;

　　1200L/s或1600 L/s分子泵作為主抽泵，真空極限高達5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可選進口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3×10-6Pa(2×10-8Torr);

　　6～10KW e型電子槍，4-8穴坩堝可選;

　　最大180mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃30片/拱形或半球形樣品架，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;基片臺公轉，轉速0～25rpm連續可調;平板基底襯底可選擇加熱或水冷;

　　更優的薄膜均勻性和重復性，采用進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚;

　　可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ti, Pt, Mo, Fe, Cr, Ni等)、化合物(ITO等)及有機物材料(進口電子槍);