是真空鍍膜工藝的一項新發展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時，工件夾固在真空罩內，當高溫蒸發源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發料熔化蒸發。由于溫升，蒸發料粒子獲得一定動能，則沿著視線方向徐徐上升，最后附著于工件表面上堆積成膜。用這種工藝形成的鍍層，與零件表面既無牢固的化學結合，有無擴散連接，附著性能很差，有時就像桌面上落的灰塵一樣，用手一摸也會擦掉。然而，離子鍍工藝則有所不同，雖然也是在真空罩內進行的，但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現的。也就是說，蒸發料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相當于一個從管中射出的高速彈頭，可以穿入靶體很深，在工件上形成一種附著牢固的擴散鍍層。

　　離子鍍的作用過程如下:蒸發源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發源與工件之間產生弧光放電。由于真空罩內充有惰性氬氣，在放電電場作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發源交流電源，蒸發料粒子熔化蒸發，進入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡單作用過程。