離子鍍基本工藝流程
2018-01-30 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1617
離子鍍基本工藝流程
①工件的預熱.
一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件;電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達到預熱的目的，有時電弧也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進行預熱。
②離子轟擊濺射清洗.
一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負偏壓，利用輝光放電產生的氬離子轟擊基片，對基片進行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級，氬離子轟擊基片進行離子轟擊濺射清洗;電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時對工件進行離子轟擊濺射清洗。
③離子沉積.
不同的離子鍍方法在離子沉積時，所使用的源和離化方法不同，具體的設備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數也不同，因此，應根據具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數，還應注意在整個沉積過程中保持工藝參數的穩定。
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