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IBSH-1030離子濺射鍍膜機簡介

2018-03-01  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1259

  IBSH-1030簡介

  特點:

  1、基板水平放置,垂直監控;

  2、靶材左右移動,位置和速度可編程控制;

  3、基板:12吋×1 或 6吋×4;

  4、靶材:兩靶,三靶或四靶可更換;

  5、多光路監控。

  6、無膜厚分布修正板

  工藝參數:

  一,真空系統

  1、極限真空度:4.0×10-5Pa

  2、抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鐘

  3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

  二,控制精度

  1、靶材旋轉:0.005°

  2、工件旋轉: <1000RPM

  3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev

  4、膜厚修正板:0.005°

  5、擋板: position switch

  三,光學監控系統OMS

  1、波長范圍:380nm~1650nm

  2、光源穩定性 :白光< 0.1%,激光< 0.02%

  3、波長分辨率: 白光0.2nm,激光0.1nm

  4、波長準確度: 白光0.2nm ,激光0.1nm


關鍵詞: 離子鍍膜機           

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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