IBSH-1030離子濺射鍍膜機簡介
2018-03-01 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1259
IBSH-1030簡介
特點:
1、基板水平放置,垂直監控;
2、靶材左右移動,位置和速度可編程控制;
3、基板:12吋×1 或 6吋×4;
4、靶材:兩靶,三靶或四靶可更換;
5、多光路監控。
6、無膜厚分布修正板
工藝參數:
一,真空系統
1、極限真空度:4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鐘
3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec
二,控制精度
1、靶材旋轉:0.005°
2、工件旋轉: <1000RPM
3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板:0.005°
5、擋板: position switch
三,光學監控系統OMS
1、波長范圍:380nm~1650nm
2、光源穩定性 :白光< 0.1%,激光< 0.02%
3、波長分辨率: 白光0.2nm,激光0.1nm
4、波長準確度: 白光0.2nm ,激光0.1nm