真空(kong)(kong)鍍膜機首(shou)要(yao)指一(yi)類(lei)需(xu)要(yao)在較高真空(kong)(kong)度下進行的鍍膜，具體包括很多種(zhong)類(lei)，包括真空(kong)(kong)離子蒸(zheng)發(fa)，磁控(kong)濺射，MBE分子束外延，PLD激光(guang)濺射堆積等很多種(zhong)。首(shou)要(yao)思(si)路是分紅蒸(zheng)發(fa)和濺射兩種(zhong)。

　　需要(yao)鍍膜(mo)的(de)被變成基片(pian)，鍍的(de)材(cai)料被變成靶材(cai)。 基片(pian)與(yu)靶材(cai)同在真空腔(qiang)中。

　　蒸發鍍(du)膜(mo)(mo)一般是加熱靶材(cai)使(shi)表(biao)面(mian)組分(fen)以原(yuan)子團或離(li)子方(fang)法被蒸發出來，而且(qie)沉降在(zai)基片表(biao)面(mian)，經過成(cheng)膜(mo)(mo)進(jin)程(散點-島狀結構-迷(mi)走(zou)結構-層狀生長)構成(cheng)薄(bo)膜(mo)(mo)。 對于濺射類鍍(du)膜(mo)(mo)，可以簡(jian)略理解為運用(yong)電(dian)子或高能激光(guang)轟擊靶材(cai)，并(bing)使(shi)表(biao)面(mian)組分(fen)以原(yuan)子團或離(li)子方(fang)法被濺射出來，而且(qie)畢(bi)竟堆積在(zai)基片表(biao)面(mian)，履歷成(cheng)膜(mo)(mo)進(jin)程，畢(bi)竟構成(cheng)薄(bo)膜(mo)(mo)。