什么是

　　離子鍍：蒸發(fa)物質(zhi)的分子被(bei)電子碰撞電離后以(yi)離子沉(chen)積在固體表(biao)面，稱為離子鍍。這種技(ji)術是D.麥(mai)托克斯于1963年提出的。

　　離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)鍍(du)是真(zhen)空蒸(zheng)發(fa)與陰極(ji)濺(jian)(jian)射技術的結合。一種離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)鍍(du)系(xi)統,將基片(pian)臺作(zuo)(zuo)為陰極(ji)，外殼作(zuo)(zuo)陽(yang)極(ji)，充(chong)入(ru)惰性氣體(如(ru)氬)以(yi)產生(sheng)輝光放(fang)電(dian)。從蒸(zheng)發(fa)源蒸(zheng)發(fa)的分子(zi)(zi)(zi)通過(guo)等(deng)離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)區時發(fa)生(sheng)電(dian)離(li)(li)(li)。正(zheng)離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)被基片(pian)臺負電(dian)壓加速打(da)到基片(pian)表面。未電(dian)離(li)(li)(li)的中(zhong)性原子(zi)(zi)(zi)(約(yue)占蒸(zheng)發(fa)料的95%)也沉積在(zai)基片(pian)或真(zhen)空室壁表面。電(dian)場對離(li)(li)(li)化的蒸(zheng)氣分子(zi)(zi)(zi)的加速作(zuo)(zuo)用(yong)(離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)能(neng)量約(yue)幾(ji)百(bai)～幾(ji)千電(dian)子(zi)(zi)(zi)伏)和氬離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)對基片(pian)的濺(jian)(jian)射清洗作(zuo)(zuo)用(yong)，使膜層附著強(qiang)度大大提高。

　　離子鍍(du)工藝綜合(he)了蒸發(高(gao)沉積速率)與濺(jian)射(良好(hao)的(de)膜層附著力)工藝的(de)特點，并有很好(hao)的(de)繞(rao)射性(xing)，可為形狀復雜的(de)工件鍍(du)膜。