PVD指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

　　PVD指利用物理過程(cheng)實現物質轉移(yi)，將原(yuan)子或(huo)分子由源(yuan)轉移(yi)到基(ji)材表面上的(de)過程(cheng)。它的(de)作(zuo)用是(shi)可以使(shi)某些有特殊性能(強度高、耐(nai)磨性、散熱性、耐(nai)腐性等)的(de)微粒噴涂在性能較(jiao)低(di)的(de)母體上，使(shi)得母體具有更好的(de)性能。 PVD基(ji)本(ben)方法(fa)：真空蒸發、濺(jian)射(she) 、離子鍍(du)(空心陰(yin)極(ji)離子鍍(du)、熱陰(yin)極(ji)離子鍍(du)、電弧離子鍍(du)、活性反應離子鍍(du)、射(she)頻離子鍍(du)、直流(liu)放電離子鍍(du))。

　　磁(ci)控濺射：在真空(kong)環(huan)境下，通過電壓和(he)磁(ci)場(chang)的共(gong)同(tong)作用(yong)，以(yi)被(bei)離(li)(li)化的惰性氣體(ti)(ti)離(li)(li)子(zi)對靶材(cai)進行轟擊，致使靶材(cai)以(yi)離(li)(li)子(zi)、原子(zi)或分子(zi)的形式(shi)被(bei)彈(dan)出并(bing)沉(chen)積在基件上形成(cheng)薄膜。根據(ju)使用(yong)的電離(li)(li)電源的不同(tong)，導體(ti)(ti)和(he)非導體(ti)(ti)材(cai)料均可作為靶材(cai)被(bei)濺射。

　　過濾(lv)陰極(ji)弧：過濾(lv)陰極(ji)電(dian)(dian)弧(FCA )配(pei)有高效的電(dian)(dian)磁過濾(lv)系統，可將(jiang)離(li)子(zi)源(yuan)產生(sheng)的等離(li)子(zi)體中的宏(hong)觀粒(li)子(zi)、離(li)子(zi)團(tuan)過濾(lv)干凈，經過磁過濾(lv)后沉積粒(li)子(zi)的離(li)化(hua)率為(wei)100%，并且可以過濾(lv)掉(diao)大顆粒(li)， 因(yin)此制(zhi)備的薄膜非(fei)常致密和平(ping)整光滑，具(ju)有抗腐蝕性(xing)能好，與機體的結合力很強。