鍍鋁機真空不穩定的原因分析
2018-04-10 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1578
真空鍍鋁是在真空狀態下，將鋁金屬加熱熔融至蒸發，鋁原子凝結在高分子材料表面，形成極薄的鋁層。
真空不穩定的原因：
1、鍍膜物品的清洗不徹底，表面殘留有清洗劑和水;
2、鍍膜物品的電位;
3、調節蒸發源的溫度，不可過低或過高;
4、鋁源含雜質過多，一般純度應該是4個9或5個9以上;
5、鍍膜物品的表面溫度不合理，溫度過高或過低;
6、真空擴散泵應該換油;
7、若是電子束蒸發，還要調節電子束轟擊位置;
8、真空鍍膜機真空度不達標。
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真空鍍膜設備主要應用在哪些方面
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