工(gong)件除氣的必要(yao)性和真(zhen)空鍍(du)膜(mo)機分類(lei)介紹

　　真(zhen)空狀態是(shi)支(zhi)持(chi)真(zhen)空鍍膜(mo)機運作的環境，特(te)別是(shi)需要高真(zhen)空度的設備，通常我們需要達到(dao)高真(zhen)空度，抽氣(qi)系統的作用是(shi)功不(bu)可沒的，但除(chu)了(le)抽氣(qi)系統外，在(zai)真(zhen)空鍍膜(mo)設備運行的過(guo)程中(zhong)，還有一點就(jiu)是(shi)，工件的除(chu)氣(qi)。

　　有些工件它(ta)本身(shen)內(nei)部(bu)存在(zai)著(zhu)很多的(de)(de)氣(qi)體(ti)、水(shui)分等(deng)，這些物質都會隨著(zhu)設備加熱時被(bei)排放到(dao)真空室中，降低了真空度，更甚者，有些氣(qi)體(ti)帶有毒(du)性成分，直接損害到(dao)真空室內(nei)部(bu)機械結構，造(zao)成設備不能(neng)正(zheng)(zheng)常(chang)運作。另外，正(zheng)(zheng)在(zai)鍍(du)膜過程中，由(you)于工件內(nei)氣(qi)體(ti)加熱膨(peng)脹，容(rong)易(yi)使(shi)已經鍍(du)上的(de)(de)膜層裂開，當然這個情況(kuang)出(chu)現(xian)的(de)(de)機率視工件本身(shen)物理性質有關(guan)，像塑料等(deng)容(rong)易(yi)膨(peng)脹的(de)(de)，機率就比較高(gao)，像金屬等(deng)硬質的(de)(de)，機率就比較低，但也不能(neng)忽視，因此工件的(de)(de)除氣(qi)是非常(chang)必要(yao)的(de)(de)。

　　通常我們使用的工(gong)件除(chu)氣方法是烘(hong)烤，通過加(jia)熱把工(gong)件內的氣體(ti)、水分(fen)排出，在鍍膜前，抽(chou)氣的同時，對工(gong)件進行加(jia)熱，當工(gong)件內水分(fen)和(he)氣體(ti)由于加(jia)熱而放出后，隨(sui)著真空室(shi)內的氣體(ti)一(yi)起被真空泵抽(chou)出。

　　針對(dui)不(bu)(bu)同的(de)工件采取不(bu)(bu)一(yi)樣的(de)除氣措施，有效控(kong)制工件內部(bu)氣體與水分(fen)排放，提高鍍(du)膜(mo)(mo)的(de)穩定(ding)性(xing)和均勻性(xing)。真(zhen)(zhen)空(kong)鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)分(fen)類和適(shi)用范圍真(zhen)(zhen)空(kong)鍍(du)膜(mo)(mo)機(ji)主要(yao)指一(yi)類需要(yao)在(zai)較(jiao)高真(zhen)(zhen)空(kong)度下(xia)進行的(de)鍍(du)膜(mo)(mo)，具體包括很多(duo)(duo)種類，包括真(zhen)(zhen)空(kong)離(li)子蒸(zheng)(zheng)發(fa)，磁控(kong)濺(jian)(jian)射(she)，MBE分(fen)子束外(wai)延，PLD激(ji)光濺(jian)(jian)射(she)沉積等很多(duo)(duo)種。主要(yao)思路是分(fen)成蒸(zheng)(zheng)發(fa)和濺(jian)(jian)射(she)兩種。