真空鍍膜設備鍍鋁工藝的要求
2017-09-06 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1253
真空鍍膜機 真空鍍鋁是在真空狀態下，將鋁金屬加熱熔融至蒸騰，鋁原子凝結在高分子材料外表，構成極薄的鋁層。真空鍍鋁請求基材外表潤滑、平坦、厚度均勻;挺度和摩擦系數恰當;外表張力大于38Dyn/Cm2;熱性能好，經得起蒸騰源的熱輻射和冷凝熱的效果;基材含水量低于0.1%。
工藝要求：真空度不得低于103PA，避免呈現褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力，敞開冷卻體系，避免薄膜受熱呈現拉伸變形;準確操控卷取速度(280～320m/min)、送鋁速度(0.4～0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流，以取得商品請求的鋁層厚度(100～300A°);可預先在薄膜上涂布必定干量的底膠，并充沛枯燥，再經真空鍍鋁，可進步鋁層與薄膜的結合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護樹脂，避免鋁層氧化蛻變。經此技術構成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易蛻變。
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