真空鍍鋁設備廠家介紹真空鍍膜技術中的熱點問題
2020-11-28 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:750
真空鍍鋁設備廠家介紹真空鍍膜技術中的熱點問題
真空鍍鋁設備蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。
一、對于蒸發鍍膜：
一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
厚度均勻性主要取決于：
1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3. 蒸發功率，速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間，厚度大小。
組分均勻性：
蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性：
1。晶格匹配度
2。基片溫度
3。蒸發速率
濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
上一條 ：
磁控濺射鍍膜設備原理及發展起源
下一條 ：
光學鍍膜機對于單片膜色不...